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成果信息

以該薄膜作為光吸收層，通過優(yōu)化光吸收層與背接觸和緩沖層的界面特性,，同時(shí)結(jié)合實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的直流濺射Mo、化學(xué)水浴沉積CdS,、射頻濺射沉積本征ZnO和直流濺射沉積鋁摻雜ZnO和柵線蒸鍍等技術(shù),，實(shí)現(xiàn)高效率銅鋅錫硫薄膜太陽電池的制作。批量制得的器件光電轉(zhuǎn)換效率均能夠達(dá)到8%以上,。典型器件的性能如下：開路電壓為650 mV,，短路電流密度為 16.13 mA/cm2,，填充因子59.0 %,，光電轉(zhuǎn)換效率為6.25%。)

背景介紹

銅鋅錫硫以其優(yōu)良的光學(xué),、電學(xué)性質(zhì)和礦源豐富,、環(huán)境友好的特點(diǎn)成為新一代薄膜太陽電池光吸收層材料的有力競(jìng)爭(zhēng)者。本技術(shù)采用基于溶膠-凝膠的溶液涂覆工藝,，突破了制膠,、涂覆、空氣退火,、低壓硫化等一系列薄膜工藝難點(diǎn),，制備出高質(zhì)量的銅鋅錫硫薄膜。)

應(yīng)用前景

由于該技術(shù)具有方法簡(jiǎn)易,、成本低廉,、成膜質(zhì)量高等優(yōu)點(diǎn)，既避免了肼溶液法環(huán)境危害大,、操作困難的缺點(diǎn),，又比真空法（濺射或蒸發(fā)）的成本低，具有良好的應(yīng)用前景,。)