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成果信息

本發(fā)明目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，而提供一種制備工藝簡(jiǎn)單,、鐵電性良好且適用于一類鐵電薄膜的微區(qū)形貌修飾和圖形化的方法,。)

背景介紹

1)通過(guò)溶膠-凝膠法,、物理沉積法或化學(xué)氣相沉積法等獲得的鐵電薄膜表面不是很平整，粗糙度值在3～10nm之間,；這對(duì)后續(xù)的刻蝕工藝提出了更高要求,； 2)改進(jìn)鐵電薄膜的制備工藝(如溶液的配置、勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速,、退火溫度等),，獲得表面形貌較平整的薄膜，然后采用反應(yīng)離子束刻蝕(RIE)或離子束刻蝕(IBE)等方法進(jìn)行刻蝕；但是,，刻蝕工藝參數(shù)并沒(méi)有得到非常具體的深入研究,； [0006] 3)采用RIE技術(shù)刻蝕鐵電薄膜，雖然會(huì)有很大的刻蝕速率,，但化學(xué)刻蝕的產(chǎn)物會(huì)有部分殘留在鐵電薄膜表面而難以去掉,；同時(shí)，相對(duì)于IBE而言,，RIE技術(shù)設(shè)備昂貴且操作流程較復(fù)雜,； 4)對(duì)于不同晶體結(jié)構(gòu)或組成成份的鐵電薄膜，最終刻蝕效果差異較大,，沒(méi)有適用于具體某一類鐵電薄膜材料,。)

應(yīng)用前景

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