成果信息
太陽光譜吸收膜層設計方法。本發(fā)明通過確定預選材料的介電函數(shù),;復合不同配比材料的介電函數(shù),,計算得到介電函數(shù)曲線,篩選滿足要求的復合材料配比,;構(gòu)建膜層結(jié)構(gòu)模型,,確定膜層結(jié)構(gòu)模型的物理數(shù)據(jù),;針對單一物理變量進行改變和優(yōu)化,選取復合要求的或者最優(yōu)的結(jié)構(gòu)模型,;根據(jù)篩選的復合材料配比和最優(yōu)結(jié)構(gòu)模型,。選擇、制訂和優(yōu)化膜層制備工藝,。本發(fā)明對非磁性的高太陽光譜吸收率膜層的制備工藝進行設計與優(yōu)化,,可以顯著縮小實驗過程中部分參數(shù)的選取范圍,減少錯誤實驗所造成的的人物力損耗,,更加快速高效的確定最優(yōu)工藝,,從而提高膜層開發(fā)和生產(chǎn)的效率。)
背景介紹
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應用前景
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